发明名称 Method for making capacitor electrodes
摘要 <p>Mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens kann die Rauhigkeit einer HSG-Oberfläche weitgehend auf die Oberfläche einer Elektrode übertragen werden. Die Elektrode erhält somit eine mikrostrukturierte Oberfläche, deren Flächeninhalt um mehr als 25%, bevorzugt um mehr als 50% und insbesondere bevorzugt um mehr als 100%, gesteigert werden kann. Dabei wird eine HSG-Schicht dazu verwendet, um die Elektrodenoberfläche bzw. die Opferschicht lokal zu maskieren. Nachfolgende Strukturierungsverfahren, wie beispielsweise nasschemische und/oder plasmagestützte Ätzverfahren, Nitridierungs- bzw. Oxidationsprozesse, erlauben es - basierend auf Mikromaskierungseffekten - die Elektrodenoberfläche beträchtlich aufzurauhen und somit die Elektrodenoberfläche zu vergrößern. </p>
申请公布号 EP1180797(A3) 申请公布日期 2007.01.24
申请号 EP20010119073 申请日期 2001.08.07
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 GSCHWANDTNER, ALEXANDER, DR.;GUTSCHE, MARTIN
分类号 H01L21/8242;H01L21/02 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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