| 发明名称 | 用于处理基于真空的半导体处理系统中的工件的方法和系统 | ||
| 摘要 | 提供用于在基于真空的半导体处理系统中处理材料的方法和系统，包括用于从一个臂到另一个臂处理材料的方法和系统，目的是横穿线性处理系统。 | ||
| 申请公布号 | CN1902031A | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200480040124.7 | 申请日期 | 2004.11.10 |
| 申请人 | 布卢希弗特科技公司 | 发明人 | P·范德莫伊伦 |
| 分类号 | B25J18/02(2006.01) | 主分类号 | B25J18/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;梁永 |
| 主权项 | 1、一种半导体处理方法，包括：沿着基于真空的处理系统的轴定位多个机器人臂和多个处理模块；以及通过使工件从该多个机器人臂中的第一个传给该多个机器人臂中的第二个，来在该多个处理模块之间移动工件。 | ||
| 地址 | 美国麻萨诸塞州 | ||