| 发明名称 | 用于取像装置的防沙结构 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于取像装置的防沙结构，包括：一防尘盖体、一对活动防尘叶片、一转动件及一底座；其中，该防尘盖体具有一第一透孔；该对活动防尘叶片分别相对应活动地枢接于该防尘盖体内；该转动件活动地设置于该对活动防尘叶片上，且该转动件具有一与该第一透孔相对应的第二透孔及复数个形成于该转动件两端面的支撑肋；该底座固定于该防尘盖体的底端，以防止该转动件产生纵向的移动，且该底座具有一与该第一、二透孔相对应的第三透孔；该转动件透过部分的支撑肋，以于该对活动防尘叶片与该底座之间产生一预定范围的转动。 | ||
| 申请公布号 | CN2862110Y | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200520144884.4 | 申请日期 | 2005.12.15 |
| 申请人 | 普立尔科技股份有限公司 | 发明人 | 洪俊辉 |
| 分类号 | G03B17/08(2006.01) | 主分类号 | G03B17/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 党晓林 |
| 主权项 | 1、一种用于取像装置的防沙结构，其特征在于，包括：一防尘盖体，其具有一第一透孔；一对活动防尘叶片，其分别相对应活动地枢接于该防尘盖体内；一转动件，其活动地设置于该对活动防尘叶片上，且该转动件具有一与该第一透孔相对应的第二透孔及复数个形成于该转动件两端面的支撑肋；以及一底座，其固定于该防尘盖体的底端，以防止该转动件产生纵向的移动，且该底座具有一与该第一、二透孔相对应的第三透孔；该转动件透过部分的支撑肋，以于该对活动防尘叶片与该底座之间产生一预定范围的转动。 | ||
| 地址 | 台湾省台北市 | ||