发明名称 用于浸入式光刻的液流接近探测器
摘要 用来精确检测测量探头和一个表面之间微小距离的设备和方法,尤其是一个使用恒定液流并探测桥中液体物质流速从而可以检测微小距离的接近探测器。在该装置中,使用由多孔材料制成的限流器和/或缓冲器,和/或使用流速控制器就可以在纳米或者亚纳米的范围内测量微小距离。在另一个实施例中,接近探测器的一个测量通道被连接到多个测量臂上。
申请公布号 CN1296678C 申请公布日期 2007.01.24
申请号 CN200310123211.6 申请日期 2003.12.19
申请人 ASML控股股份有限公司 发明人 凯文·J·瓦奥莱特
分类号 G01B13/00(2006.01);G01D5/42(2006.01) 主分类号 G01B13/00(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 马浩
主权项 1.一种用来探测参考表面离岸距离与测量表面离岸距离之间差别的液流接近探测器,包括:一个将输入到液流接近探测器中的液体分配到一个参考通道和一个测量通道的连接点;位于参考通道上的第一多孔限流器,其中所述第一多孔限流器均匀地限制了液体流过参考通道;位于测量通道上的第二多孔限流器,其中所述第二多孔限流器均匀地限制了液体流过测量通道;位于参考通道一端的一个参考探头,液体通过该参考探头离开参考通道,然后穿过一个参考离岸距离打在参考表面上;位于测量通道一端的一个测量探头,液体通过该测量探头离开测量通道,然后穿过一个测量离岸距离打在测量表面上;以及耦合在参考通道和测量通道之间并被用于探测它们之间液体流动的一个液体物质流动探测器,通过该探测器参考表面与测量表面的离岸距离之间的差别能够以很高的灵敏度被探测出来。
地址 荷兰费尔德霍芬