| 发明名称 | 光掩模坯、光掩模及其制作方法 | ||
| 摘要 | 在由石英或类似物制成用作光掩模基板的透明基板(11)的一个主平面上形成用于曝光光的遮光膜(12)。遮光膜(12)不仅用作所谓的“遮光膜”，而且还用作抗反射膜。另外，遮光膜具有100nm或更小的总厚度，而且对于波长为450nm的光，具有每单位厚度光学密度(OD)为0.025nm<SUP>－1</SUP>或更小的铬化合物的厚度占到该总厚度的70％或更多。在光掩模坯被用于制作为ArF曝光而设计的掩模的情形中，选择遮光膜(12)的厚度和组成使得遮光膜(12)的OD对于193nm或248nm的光是1.2到2.3。 | ||
| 申请公布号 | CN1900819A | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200610107711.4 | 申请日期 | 2006.07.20 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社 | 发明人 | 吉川博树;洼田宽;木名濑良纪;冈崎智;丸山保;原口崇;岩片政秀;福岛祐一;佐贺匡 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F7/16(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 孟凡宏 |
| 主权项 | 1.一种光掩模坯，包括：透明基板；和形成在透明基板上用于曝光光的遮光膜；其特征在于所述遮光膜具有100nm或更小的总厚度，对于波长为450nm的光，每单位厚度光学密度(OD)为0.025nm-1或更小的铬化合物的厚度占到该总厚度的70％或更多。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||