发明名称 用于有机发光二极体的铟锡氧化物薄膜研磨装置
摘要 本发明涉及一种研磨涂有ITO(铟锡氧化物)膜的玻璃基板的研磨装置,它包括有附着有研磨垫的下顶板;用于驱动所述下顶板旋转的旋转驱动装置;对应于下顶板,其下面设有用于放入研磨物的研磨座的上顶板;用于上下移动上顶板,使所述上顶板与下顶板接触,并向下加压的气缸;与所述气缸连接,用于驱动所述上顶板回旋的回旋驱动装置;用于向所述下顶板供应研磨液的研磨液供应装置;用于控制所述旋转驱动装置旋转的旋转控制装置;用于控制所述气缸上下移动和施加压力的压力控制装置;以及用于控制所述回旋驱动装置旋转的回旋控制装置。采用本发明研磨装置研磨涂有ITO膜的玻璃基板表面,可获得低光照度。
申请公布号 TWI271884 申请公布日期 2007.01.21
申请号 TW094128278 申请日期 2005.08.19
申请人 信安SNP有限公司 发明人 安景铁;金宽秀;田彰镐
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项 1.一种研磨装置,其特征在于它包括: 附着有研磨垫的下顶板; 用于驱动所述下顶板旋转的旋转驱动装置; 对应于所述下顶板的上顶板,所述上顶板下面设有 用于放入研磨对象物的研磨座; 用于上下移动上顶板,使所述上顶板与下顶板接触 ,并向下加压的气缸; 与所述气缸连接,用于驱动所述上顶板回旋的回旋 驱动装置; 用于向所述下顶板供应研磨液的研磨液供应装置; 用于控制所述装置旋转的旋转控制装置; 用于控制所述气缸上下移动和加压的压力控制装 置; 用于控制所述回旋驱动装置回旋的的回旋控制装 置。 2.如申请专利范围第1项所述的研磨装置,其特征在 于:它还包括有用于控制旋转控制装置、压力控制 装置及回旋控制装置的操作板。 3.如申请专利范围第1项或第2项所述的研磨装置, 其特征在于: 所述研磨液供应装置包括有: 研磨液储存箱; 用于混合所述研磨液储存箱内研磨液的马达; 用于从所述研磨液储存箱中抽取所述研磨液的研 磨液供应泵; 用于向所述研磨液储存箱供应研磨原液的研磨原 液供应装置; 与所述研磨液储存箱相连通,形成通向所述上顶板 和下顶板的油路的研磨液供应管道; 所述研磨液储存箱包括有:用于测定研磨液储存箱 内研磨液温度的温度感测器和研磨液加热器; 所述供应管道包括有:用于测定研磨液pH値的pH値 感测器、用于测定研磨液流量的流量感测器和研 磨液筛检程式。 4.如申请专利范围第3项所述的研磨装置,其特征在 于:所述供应管道包括有:向所述下顶板的中央供 应研磨液的下部供应管道和附着于所述运转装置 的一侧、并从所述下顶板的上部供应研磨液的上 部供应管道。 5.如申请专利范围第3项所述的研磨装置,其特征在 于:所述研磨液供应装置还包括有:从所述流量感 测器接收流量资讯,并以此控制所述研磨液供应泵 的研磨液供应控制装置;以及从所述温度感测器接 收温度资讯,并以此控制所述加热器的温度控制装 置。 6.如申请专利范围第3项所述的研磨装置,其特征在 于:所述研磨原液供应装置还包括有:研磨原液储 存箱和研磨原液供应泵,以及从所述pH値感测器接 收pH値资讯,并以此控制所述研磨原液供应泵的研 磨原液供应控制装置。 图式简单说明: 图1是现有研磨装置示意图。 图2是本发明研磨装置示意图。 图3是本发明研磨装置的各控制装置运行流程图。 图4是本发明研磨装置的上顶板向上旋转后的示意 图。 图5是本发明研磨装置的侧剖视图; 图6是本发明研磨装置的研磨液供应装置示意图; 图7a是本发明研磨装置的温度控制装置运行流程 图; 图7b是本发明研磨装置的研磨原液供应控制装置 运行流程图; 图7b是本发明研磨装置的研磨液供应控制装置运 行流程图; 图8a-8c是本发明研磨装置的研磨条件曲线图。
地址 韩国