| 主权项 |
1.一种具有中空结构之高分子颗粒的制造方法,该 具有中空结构之高分子颗粒的制造方法包含: 进行一粒种制造程序,该粒种制造程序系藉由一分 散聚合法合成粒径均一之聚苯乙烯颗粒以作为一 粒种; 混合该粒种、一乳化剂与水以形成一第一溶液,并 藉由一第一分散程序均匀分散该第一溶液中之该 粒种; 添加一第一起始剂与一助吸收剂至该第一溶液中 以形成一第二溶液,其中,该助吸收剂系用以肿胀 该粒种; 进行一第一肿胀程序以便于肿入该第一起始剂至 该粒种中并形成一第一颗粒; 混合一具有一个双键之丙烯酸酯与、一具有至少 二个双键之丙烯酸酯、一稀释剂、该乳化剂与水 以形成一第三溶液; 混合该第二溶液与该第三溶液以形成一第四溶液, 并进行一第二肿胀程序以便于肿入该具有一个双 键之丙烯酸酯、该具有至少二个双键之丙烯酸酯 与该稀释剂至该第一颗粒中并形成一第二颗粒; 进行一第二分散程序,其系藉由添加一第一稳定剂 于该第四溶液中以稳定该第二颗粒,并避免第二颗 粒相互间聚集; 进行一聚合制程以使得该第二颗粒中所含之该具 有一个双键之丙烯酸酯与该具有至少二个双键之 丙烯酸酯进行交联聚合反应以形成一丙烯酸酯共 聚合体,并藉此形成一第三颗粒,其中,该丙烯酸酯 共聚合体形成该第三颗粒之外壳,而其余未反应之 该具有一个双键之丙烯酸酯、未反应之该具有至 少二个双键之丙烯酸酯、聚苯乙烯及稀释剂系分 布于该第三颗粒之内部;与 进行至少一次溶出程序以移除该第三颗粒所含之 该稀释剂、该助吸收剂、聚苯乙烯、未反应之该 具有一个双键之丙烯酸酯、未反应之该具有至少 二个双键之丙烯酸酯、未反应之第一起始剂、丙 烯酸酯寡聚物、该第一稳定剂、该乳化剂及其他 杂质,以形成该具有中空结构之高分子颗粒。 2.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中粒种制造程序更包含: 混合一苯乙烯单体、乙醇与一第二稳定剂以形成 一第五溶液; 混合一第二起始剂与乙醇以形成一第六溶液;与 混合该第五溶液与该第六溶液并进行一聚合反应 以形成粒径均一之聚苯乙烯颗粒,并藉此形成该粒 种。 3.如申请专利范围第2项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中第二稳定剂系为下列族 群中之一者:聚乙烯基烷酮(polyvinylpyrrolidone,PVP)、 聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)与阴离子型界面活性 剂。 4.如申请专利范围第2项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中第二起始剂系为下列族 群中之一者或其任意组合:2,2-偶氮双异丁晴(2-2'- azobisisobutyronitrile,AIBN)、过氧化二苯甲醯基(benzoyl peroxide,BPO)、chloroperoxidase(CPO)、Tert-butylhydroperoxide( t-BuPO)、过硫酸铵(ammonium persulfate,APS)、过硫酸钾( potassium persulfate,KPS)与cumene hydroperoxide(CHP)。 5.如申请专利范围第2项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中聚合反应系于一富含惰 性气体之操作环境中所执行。 6.如申请专利范围第2项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中聚合反应之操作温度约 为50℃至70℃。 7.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中乳化剂更包含十二烷基 磺酸钠(sodium dodecyl sulfonate,SDS)。 8.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中第一分散程序更包含超 音波振荡步骤或搅拌步骤。 9.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中第一起始剂系为下列族 群中之一者或其任意组合:2,2-偶氮双异丁晴(2-2'- azobisisobutyronitrile,AIBN)、过氧化二苯甲醯基(benzoyl peroxide,BPO)、chloroperoxidase(CPO)、Tert-butylhydroperoxide( t-BuPO)、过硫酸铵(ammonium persulfate,APS)、过硫酸钾( potassium persulfate,KPS)与cumene hydroperoxide(CHP)。 10.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中助吸收剂系为下列族群 之一:甲苯、苯与丙酮。 11.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中第一肿胀程序更包含超 音波振荡步骤或搅拌步骤。 12.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中具有一个双键之丙烯酸 酯系为下列族群中之一者或其任意组合:2-羟乙胺 基丙烯酸酯(2-hydroxyethyl methacrylate,HEMA)、丙烯甲酯 (Methylacrylate)、丙烯酸乙酯(Ethyl acrylate)、丙烯酸 丁酯(Brtylacrylate)、丙烯酸辛酯(Octyl acrylate)、甲基 丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯 、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙 烯酸二甲胺乙酯、羟乙基丙稀酸脂(Hydroxyethyl Acrylate,HEA)、羟丙基丙稀酸脂(Hydroxypropyl Acrylate,HPA )、苯乙烯(Styrene)与醋酸乙烯(Vinyl Acetate)。 13.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中具有至少二个双键之丙 烯酸酯系为下列族群中之一者或其任意组合:乙二 醇二甲基丙烯酸酯(ethylene glycol dimethacrylate,EGDMA) 、1,3 butylene glycol dimethacrylate(BGDMA)、1,4-butane diol diacrylate(BDDA)、1,6-hexane diol diacrylate(HDDA)、hexanediol dimethacrylate(HDDMA)、neopentylglycol diacrylate (NPGDA)、 trimethylolpropane triacrylate(TMPTA)。 14.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中具有一个双键之丙烯酸 酯与该具有至少二个双键之丙烯酸酯的总添加量 范围约为该粒种重量的2倍至40倍。 15.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中稀释剂对于该具有一个 双键之丙烯酸酯与该具有至少二个双键之丙烯酸 酯为良溶剂,但对所聚合而成之共聚合体为不良溶 剂,以便于形成该中空结构。 16.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中稀释剂系为下列族群之 一:甲苯、苯、正己烷、辛烷与丙酮。 17.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,当稀释剂系为甲苯时,则其 添加量约大于该具有一个双键之丙烯酸酯与该具 有至少二个双键之丙烯酸酯之总重量,以形成完整 之中空结构。 18.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中具有中空结构之高分子 颗粒的中空度(porosity)系随着该稀释剂的添加量增 加而增加。 19.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中第二肿胀程序更包含超 音波振荡步骤或搅拌步骤。 20.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中第一稳定剂系为下列族 群中之一者:聚乙烯基烷酮(polyvinylpyrrolidone,PVP)、 聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)与阴离子型界面活性 剂。 21.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中聚合制程更包含一加热 程序。 22.如申请专利范围第21项所述之具有中空结构之 高分子颗粒的制造方法,其中加热程序的操作温度 范围约为50℃至90℃。 23.如申请专利范围第21项所述之具有中空结构之 高分子颗粒的制造方法,其中加热程序系于一富含 惰性气体之操作环境中所执行。 24.如申请专利范围第21项所述之具有中空结构之 高分子颗粒的制造方法,当第三颗粒仍具有该具有 一个双键之丙烯酸酯与该具有至少二个双键之丙 烯酸酯,随着该加热程序的操作时间增加,则该第 三颗拉之外壳的厚度越厚。 25.如申请专利范围第1项所述之具有中空结构之高 分子颗粒的制造方法,其中至少一次溶出程序更包 含: 进行一内部萃取步骤,藉由一萃取液以移除该第三 颗粒内部所含之该稀释剂、该助吸收剂、聚苯乙 烯、未反应之该具有一个双键之丙烯酸酯、未反 应之该具有至少二个双键之丙烯酸酯、未反应之 第一起始剂及丙烯酸酯寡聚物;与 进行一清洗步骤,藉由一清洗液以移除该第三颗粒 所含之该第一稳定剂、该乳化剂及其他杂质,以形 成该具有中空结构之高分子颗粒。 26.如申请专利范围第25项所述之具有中空结构之 高分子颗粒的制造方法,其中萃取液更包含甲苯或 苯。 27.如申请专利范围第25项所述之具有中空结构之 高分子颗粒的制造方法,其中内部萃取步骤的操作 温度范围为100℃至120℃。 28.如申请专利范围第25项所述之具有中空结构之 高分子颗粒的制造方法,其中内部萃取步骤的操作 时间大于36小时。 29.如申请专利范围第25项所述之具有中空结构之 高分子颗粒的制造方法,其中清洗液更包含甲醇。 图式简单说明: 第一图所示系为根据本发明之一第二较佳实施例 中,具有中空结构之高分子颗粒的制程流程图;与 第二图所示系为根据本发明之一第二较佳实施例 中,具有中空结构之高分子颗粒的形成机制示意图 。 |
