发明名称 Mask system for high precision and the deposition method using it
摘要
申请公布号 KR100671674(B1) 申请公布日期 2007.01.19
申请号 KR20050036876 申请日期 2005.05.02
申请人 发明人
分类号 H05B33/10 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人
主权项
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