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经营范围
发明名称
Mask system for high precision and the deposition method using it
摘要
申请公布号
KR100671674(B1)
申请公布日期
2007.01.19
申请号
KR20050036876
申请日期
2005.05.02
申请人
发明人
分类号
H05B33/10
主分类号
H05B33/10
代理机构
代理人
主权项
地址
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