发明名称 磁记录介质及其制造方法和磁读/写装置
摘要 一种磁记录介质62,其中包括:衬底11;在衬底11上形成的底涂层13和14;以及磁记录层15,其包括磁性晶粒和包围所述晶粒的晶粒间界区域。晶粒间界区域包括钛氧化物,且磁记录层15中的钛氧化物的物质含量的比率为5mol%至15mol%之间,所述钛氧化物包括至少TiO和/或Ti<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>。
申请公布号 CN1898726A 申请公布日期 2007.01.17
申请号 CN200480038388.9 申请日期 2004.12.24
申请人 株式会社东芝;昭和电工株式会社 发明人 前田知幸;及川壮一;岩崎刚之;中村太;酒井浩志;坂胁彰;清水谦治
分类号 G11B5/65(2006.01);G11B5/738(2006.01);G11B5/84(2006.01);G11B5/851(2006.01) 主分类号 G11B5/65(2006.01)
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 杨晓光;李峥
主权项 1.一种磁记录介质,包括:衬底,在所述衬底上形成的至少一层底涂层,以及在所述底涂层上形成的磁记录层,其包括磁性晶粒和包围所述磁性晶粒的晶粒间界区域;其中所述晶粒间界区域包括Ti氧化物,所述磁记录层中的所述Ti氧化物的物质含量的比率在5mol%至15mol%之间,所述Ti氧化物包括至少TiO和/或Ti2O3。
地址 日本东京都
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