发明名称 Improved alloy compositions containing oxygen for sputtering electrodes
摘要 <p>Rozprašovací elektroda, přičemž tato rozprašovací elektroda je tvořena kobaltem (Co), platinou (Pt), jednosložkovým oxidem nebo vícesložkovým oxidem a přídavkem elementárního kovu. Tento přídavný elementární kov má redukční potenciál větší než - 0,03 elektronvoltů a je při pokojové teplotě v podstatě nerozpustnýv kobaltu (Co). Tímto přídavným elementárním kovem je měď (Cu), stříbro (Ag) nebo zlato (Au) a rozprašovací elektroda je dále tvořena chromem (Cr) a/nebo borem (B). Rozprašovací elektroda je tvořena mezi 2 atomárními % a 10 atomárními % mědi (Cu), stříbra (Ag) nebo zlata (Au) nebo jiného přídavného elementárního kovu.Na základě toho zlepšená rozprašovací elektroda vykazuje významné zlepšení tepelné stability a poměru signál-šum SNR, prostřednictvímzlepšení magnetokrystalické anizotropie a větší vzájemné separace zrn.</p>
申请公布号 CZ20060126(A3) 申请公布日期 2007.01.17
申请号 CZ20060000126 申请日期 2006.02.27
申请人 HERAEUS, INC. 发明人 RACINE MICHAEL GENE;DAS ANIRBAN;KENNEDY STEVEN ROGER;CHUNG KYUNG
分类号 C23C14/35 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
地址