发明名称 |
往氮化镓结晶掺杂氧的方法和掺杂氧的n型氮化镓单晶基板 |
摘要 |
本发明提供一种可以收取氧作为n型掺杂剂的氮化镓单晶的成长方法。该法采用在表面(上面)具有C面以外的面的种晶,在供给含镓原料、氮原料和掺杂必要的含氧的原料气的同时,保持C面以外的表面,使氮化镓结晶进行气相成长,通过该表面,在氮化镓结晶中掺杂氧。或者,使用表面上具有C面的种晶,在供给镓原料、氮原料和掺杂必需的含氧原料气的同时,使产生C面以外的小平面,在保住该小平面的同时使氮化镓结晶以c轴方向进行气相成长,通过小平面,在氮化镓结晶中掺杂氧。 |
申请公布号 |
CN1896344A |
申请公布日期 |
2007.01.17 |
申请号 |
CN200610093660.4 |
申请日期 |
2002.04.09 |
申请人 |
住友电气工业株式会社 |
发明人 |
元木健作;上野昌纪 |
分类号 |
C30B29/38(2006.01);C30B31/00(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/22(2006.01);H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
C30B29/38(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
封新琴;巫肖南 |
主权项 |
1.一种往氮化镓结晶中掺杂氧的方法,其特征是,往上面具有非C面的氮化镓基板上,在供给不含Si化合物但含有镓原料、氮原料和必须掺杂的氧的原料气的同时,保住C面以外的一定方位的表面,使氮化镓结晶气相成长,通过该C面以外的面,往结晶中进行氧的掺杂。 |
地址 |
日本大阪府 |