发明名称 薄膜电容元件用组合物、绝缘膜、薄膜电容元件和电容器
摘要 本发明是在基板(4)上依次形成下部电极(6)、电介质薄膜(8)和上部电极(10)的薄膜电容器(2)。电介质薄膜(8)由薄膜电容元件用组合物构成,该薄膜电容元件用组合物具有c轴相对于基板面垂直取向的铋层状化合物,该铋层状化合物用组成式:(Bi<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB>)<SUP>2+</SUP>(A<SUB>m-1</SUB>B<SUB>m</SUB>O<SUB>3m+1</SUB>)<SUP>2-</SUP>或Bi<SUB>2</SUB>A<SUB>m-1</SUB>B<SUB>m</SUB>O<SUB>3m+3</SUB>表示,上述组成式中的符号m为偶数,符号A为选自Na、K、Pb、Ba、Sr、Ca和Bi的至少1种元素,符号B为选自Fe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、Mo和W的至少1种元素。电容率的温度特性优良,同时即使变薄也具有较高的电容率且损耗低,漏电特性优良,耐电压提高,表面平滑性也优良。
申请公布号 CN1295710C 申请公布日期 2007.01.17
申请号 CN02821471.4 申请日期 2002.08.26
申请人 TDK株式会社 发明人 坂下幸雄;舟洼浩
分类号 H01B3/12(2006.01);H01G4/33(2006.01);C01G29/00(2006.01);C04B35/00(2006.01) 主分类号 H01B3/12(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 郭煜;郭广迅
主权项 1.一种薄膜电容元件用组合物,具有c轴相对于基板面垂直取向的铋层状化合物,其特征在于,该铋层状化合物用组成式:(Bi2O2)2+(Am-1BmO3m+1)2-或Bi2Am-1BmO3m+3表示,上述组成式中的符号m为偶数,符号A为选自Na、K、Pb、Ba、Sr、Ca和Bi的至少1种元素,符号B为选自Fe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、Mo和W的至少1种元素,还具有选自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu的稀土类元素的至少一种元素,在将上述稀土类元素表示为Re,并将上述铋层状化合物的组成式表示为Bi2Am-1-xRexBmO3m+3的情况下,上述x为0.01~2.0。
地址 日本东京都