发明名称 用于使得存储器阵列区域小型化的布局方法
摘要 在其中形成通孔的部分上形成具有相同宽度的位线和一对的两条钨布线,使得该位线和钨布线以规则间隔布置。在该钨布线之间形成用于连接到另一布线层连接的通孔。在该通孔上形成由钨制成的连接布线,从而在该通孔周围具有预先确定的裕度。在光刻处理中,形成具有足够小使得光致抗蚀剂感测不到的宽度的狭缝,从而其跨越在通孔上。
申请公布号 CN1295784C 申请公布日期 2007.01.17
申请号 CN200410059848.8 申请日期 2004.06.25
申请人 尔必达存储器株式会社;株式会社日立ULSI系统;株式会社日立制作所 发明人 渡边由布子;荒井公司;成井诚司
分类号 H01L23/50(2006.01);G03F1/08(2006.01) 主分类号 H01L23/50(2006.01)
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 钟强;谷慧敏
主权项 1.一种布局方法,其用于在一个布线层上基本上平行地形成多条布线,该布线层在存储器阵列区域中具有至少一个用于连接到另一布线层上的布线的连接孔,该方法包括下面的步骤:以相等的间隔形成多条布线,该多条布线具有相同的宽度,并且以规则的孔距布置;在多个布线中的两个相邻布线之间形成所述至少一个连接孔;以及形成至少一个连接布线,该连接布线连接在两个相邻布线之间且覆盖所述至少一个连接孔,通过使用光刻处理,在连接布线的中心处的狭缝具有使得光致抗蚀剂感测不到的宽度。
地址 日本东京