发明名称 |
喷墨印头及其制程 |
摘要 |
本发明是有关于一种喷墨印头及其制程。该喷墨印头制程提供一晶圆,而此晶圆具有多个致动元件。在晶圆上形成一图案化光阻层,其中图案化光阻层具有多个腔室与分别连接至这些腔室的多个流道,且这些腔室位于这些致动元件上方。在图案化光阻层上形成一负光阻层,其中负光阻层覆盖这些腔室与这些流道。对于负光阻层进行一曝光制程,然后对于负光阻层进行一显影制程,以形成一图案化负光阻层,其中图案化负光阻层具有多个喷嘴,而这些喷嘴分别与这些腔室连通,且各喷嘴的孔径由图案化负光阻层的上表面往图案化负光阻层的下表面逐渐增加。 |
申请公布号 |
CN1895897A |
申请公布日期 |
2007.01.17 |
申请号 |
CN200510083143.4 |
申请日期 |
2005.07.13 |
申请人 |
国际联合科技股份有限公司 |
发明人 |
李致淳;蔡尚颖;陈佳麟;庄仁贤 |
分类号 |
B41J2/16(2006.01);B41J2/14(2006.01) |
主分类号 |
B41J2/16(2006.01) |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
1、一种喷墨印头制程,其特征在于其包括以下步骤:提供一晶圆,该晶圆具有多数个致动元件;在该晶圆上形成一图案化光阻层,其中该图案化光阻层具有多数个腔室与分别连接至该些腔室的多数个流道,且该些腔室位于该些致动元件上方;在该图案化光阻层上形成一负光阻层,其中该负光阻层覆盖该些腔室与该些流道;对于该负光阻层进行一第一曝光制程;以及对于该负光阻层进行一显影制程,以形成一图案化负光阻层,其中该图案化负光阻层具有多数个喷嘴,而该些喷嘴分别与该些腔室连通,且各该喷嘴的孔径由该图案化负光阻层的上表面往该图案化负光阻层的下表面逐渐增加。 |
地址 |
中国台湾 |