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经营范围
发明名称
METHOD FOR CREATING SILICON DIOXIDE FILM
摘要
申请公布号
EP1437328(B1)
申请公布日期
2007.01.17
申请号
EP20020804354
申请日期
2002.11.25
申请人
KST WORLD CORP.
发明人
KAWASAKI, MASAHIRO
分类号
C01B33/12;G02B6/13;C23C16/14;C23C16/24;C23C16/56;C30B33/00;G02B6/132
主分类号
C01B33/12
代理机构
代理人
主权项
地址
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