发明名称 |
制造取向膜的制造装置、液晶装置以及电子设备 |
摘要 |
本发明提供一种取向膜的制造装置,用于制造由在对置的一对基板之间夹持液晶而构成的液晶装置的取向膜,具备:由真空腔构成的成膜室;蒸镀部,其具有蒸镀源,用于在所述成膜室内通过物理蒸镀法将取向膜材料蒸镀到所述基板,形成取向膜;遮蔽板,其形成在所述蒸镀部与所述基板之间,具有用于选择性地蒸镀取向膜材料的狭缝状的开口部分,覆盖所述基板的不形成取向膜的区域;给除材料室,其由经由闸阀与所述成膜室连通的真空腔构成;遮蔽板收容室,其与所述给除材料室连通,并收容所述遮蔽板的备品;和交换装置,其设置在所述给除材料室,并对配置在所述成膜室内的遮蔽板和配置在所述遮蔽板收容室内的备品的遮蔽板进行交换。 |
申请公布号 |
CN1896848A |
申请公布日期 |
2007.01.17 |
申请号 |
CN200610105517.2 |
申请日期 |
2006.07.07 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
中田英男;宫川拓也 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01);G02F1/133(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1、一种制造取向膜的制造装置,用于制造由在对置的一对基板之间夹持液晶而构成的液晶装置的取向膜,具备:成膜室,其由真空腔构成;蒸镀部,其具有蒸镀源,用于在所述成膜室内通过物理蒸镀法将取向膜材料蒸镀到所述基板,形成取向膜;遮蔽板,其形成在所述蒸镀部与所述基板之间,具有用于选择性地蒸镀取向膜材料的狭缝状的开口部分,覆盖所述基板的不形成取向膜的区域;给除材料室,其由经由闸阀与所述成膜室连通的真空腔构成;遮蔽板收容室,其与所述给除材料室连通,并收容所述遮蔽板的备品;和交换装置,其设置在所述给除材料室中,并对配置在所述成膜室内的遮蔽板和配置在所述遮蔽板收容室内的备品的遮蔽板进行交换。 |
地址 |
日本东京 |