| 发明名称 | 用于浸入式光刻的可除去薄膜 | ||
| 摘要 | 一种进行照射以对浸入在流体(L3)中的诸如光刻胶的感光层(L2)进行构图的方法，包括施加可除去透明层(L4、L5)，透过浸入流体以及透过透明层将射线投射到光刻胶上，从而当被照到表面上时流体中的缺陷是模糊的，并且随后除去透明层。透明层可以有助于使这种缺陷远离在表面上的射线的焦点，并且因此可以有助于减少或消除阴影。因此，照射可以更彻底，并且减少缺陷。对于浸入流体中特别是例如在流体/表面界面处的具有小泡或颗粒形式的缺陷来说它会特别有效。照射可以用于任何目的，包括检验、处理、构图等。除去透明层可以与使光刻胶层显影的步骤结合。 | ||
| 申请公布号 | CN1898608A | 申请公布日期 | 2007.01.17 |
| 申请号 | CN200480038477.3 | 申请日期 | 2004.12.22 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | 彼得·迪克森;罗伯特·D.·莫顿;彼得·赞德伯金;戴维·凡斯蒂温克尔;尤里·阿克塞诺夫;捷若恩·H.·拉莫斯;约翰内斯·凡温格尔登;劳伦特·马里尼耶 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王英 |
| 主权项 | 1、一种照射包括感光层并浸入在浸入流体(L3)中的表面(L1)和(L2)的方法，该方法包括：将可除去透明层(L4、L5)施加到所述表面，透过所述浸入流体以及透过所述透明层将电磁射线投射到所述表面上，并且随后除去所述透明层。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||