发明名称 半导体元件及其制造方法
摘要 一种半导体元件,包括闸极结构、源极区、汲极区与一对介电阻障层。闸极结构设置于基底上。源极区与汲极区分别设置于闸极结构两侧之基底中,其中在闸极结构下方、且位于在源极区与汲极区之间有通道区。一对介电阻障层分别设置于闸极结构下方之基底中,且位于源极区与汲极区之间。介电阻挡层可以减少奈米级元件的汲极引发阻障降低效应。
申请公布号 TW200703437 申请公布日期 2007.01.16
申请号 TW094123681 申请日期 2005.07.13
申请人 茂德科技股份有限公司 发明人 周志文;朱志勋
分类号 H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路19号3楼