藉由改变垂直掺质分布以减少矽化物不均匀度之技术

摘要

藉由修改深汲极和源极区中的垂直掺质浓度，可控制金属矽化物区形成期间的反应行为。为此目的，在金属矽化物界面的目标深度附近形成增加的掺质浓度，藉此降低反应速度，并从而改善所得之金属矽化物界面的均匀度。