发明名称 多层配线结构及多层配线结构之制造方法
摘要 本发明揭示一种制造多层配线结构之方法。该方法包含在该第一金属配线元件上形成通孔柱之步骤;使用具有稍微大于通孔柱的头之非喷出区的丝网遮罩,在第一金属配线元件上印刷层间绝缘膜,使得在通常对准非喷出区与通孔柱的头同时,层间绝缘膜具有低于通孔柱的头之位准的上表面之步骤;硬化层间绝缘膜之步骤;及在层间绝缘膜上形成与通孔柱接触之第二金属配线元件,使得第一金属配线元件和第二金属配线元件经由通孔柱连接之步骤。
申请公布号 TW200704326 申请公布日期 2007.01.16
申请号 TW095108440 申请日期 2006.03.13
申请人 理光股份有限公司 发明人 村上明繁;川岛伊久卫;秋山善一
分类号 H05K3/46(2006.01) 主分类号 H05K3/46(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本