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发明名称
多层配线结构及多层配线结构之制造方法
摘要
本发明揭示一种制造多层配线结构之方法。该方法包含在该第一金属配线元件上形成通孔柱之步骤;使用具有稍微大于通孔柱的头之非喷出区的丝网遮罩,在第一金属配线元件上印刷层间绝缘膜,使得在通常对准非喷出区与通孔柱的头同时,层间绝缘膜具有低于通孔柱的头之位准的上表面之步骤;硬化层间绝缘膜之步骤;及在层间绝缘膜上形成与通孔柱接触之第二金属配线元件,使得第一金属配线元件和第二金属配线元件经由通孔柱连接之步骤。
申请公布号
TW200704326
申请公布日期
2007.01.16
申请号
TW095108440
申请日期
2006.03.13
申请人
理光股份有限公司
发明人
村上明繁;川岛伊久卫;秋山善一
分类号
H05K3/46(2006.01)
主分类号
H05K3/46(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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