温度调节单元、具有该单元之基板处理装置以及该装置中调节温度之方法

摘要

本发明揭示一种基板处理装置，其包括：一处理室，于其中可藉由一制程来处理一半导体基板；一经定位以冷却该处理室之冷却单元，该冷却单元经组态以输送冷却流体；及一温度调节单元，其改变供应至该冷却单元内之冷却流体之温度。该温度调节单元具有一循环线路。该循环线路具有：一经组态以压缩一制冷剂之压缩机；一经组态以冷凝该经压缩之制冷剂之冷凝器；一经组态以膨胀该经冷凝之制冷剂之膨胀器，该膨胀器包括复数个并行布置之膨胀阀；及一经组态以蒸发该已膨胀之制冷剂之蒸发器，该蒸发器经定位以冷却该冷却流体。