| 摘要 |
本发明提供一种透明导电膜及其形成方法，彼等可进行透明导电膜之微细图案化，且防止受到气体及水分之影响所导致之特性变化及透过率降低，以及包含该透明导电膜之光电装置、及电子机器。透明导电膜之形成方法包含以下步骤：在基板P上，以聚矽氧烷作为骨架之材质，形成对应于像素电极(透明导电膜)19之形成区域之岸堤(bank)B4；在藉由岸堤B4划分之区域，以液滴吐出法，配置含有透明导电性微粒子之第一功能液；将第一功能液予以乾燥处理，而形成第一层膜19c；在第一层膜19c上，以液滴吐出法，配置含有金属化合物之第二功能液；及一起烧成第一层膜19c与第二功能液，而形成包含第一层膜19c与埋入该膜中之空穴之金属氧化物之透明导电层19a。 |
