发明名称 具有凹槽结构之单元电晶体之半导体装置及其制造方法
摘要 本发明提供具有双闸周边电晶体之半导体结构,包括具有表面通道之nMOSFET及pMOSFET,以及具有凹槽通道结构之单元电晶体如nMOSFET。单元电晶体之闸极为n型多晶矽层,具有适当且恒定之掺杂浓度。
申请公布号 TW200703570 申请公布日期 2007.01.16
申请号 TW095117606 申请日期 2006.05.18
申请人 尔必达存储器股份有限公司 发明人 山崎靖
分类号 H01L21/8239(2006.01) 主分类号 H01L21/8239(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本