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发明名称
具有凹槽结构之单元电晶体之半导体装置及其制造方法
摘要
本发明提供具有双闸周边电晶体之半导体结构,包括具有表面通道之nMOSFET及pMOSFET,以及具有凹槽通道结构之单元电晶体如nMOSFET。单元电晶体之闸极为n型多晶矽层,具有适当且恒定之掺杂浓度。
申请公布号
TW200703570
申请公布日期
2007.01.16
申请号
TW095117606
申请日期
2006.05.18
申请人
尔必达存储器股份有限公司
发明人
山崎靖
分类号
H01L21/8239(2006.01)
主分类号
H01L21/8239(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本
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