浸入微影系统用流体

摘要

本案揭示一种在浸入微影系统中使用的流体。在一流体之中引入一种改变阻抗的物质，使该流体更加地具有传导性。该流体接着在一曝光处理期间，配置于一投影镜头系统浸入头与一半导体晶圆之间。因为该流体具有传导性，便可在曝光处理期间，在该半导体晶圆对于该投影镜头系统移动时，透过该传导性流体进行静电能量放电，而避免对该一投影镜头系统浸入头、该半导体晶圆以及一支撑该半导体晶圆平台中的感应器造成伤害。