发明名称 高抗蚀性化镍浸金处理流程
摘要 本发明提供一种高抗蚀性化镍浸金处理流程,首先将一待镀物的一表面区域进行一活化处理,使此表面区域转换成一活性区域,再将待镀物的活性区域进行双重镍镀。本发明藉由双重镍镀,以减少待镀物溶出干扰,提高镀浴使用寿命,进而降低成本,并且可使电镀产品可靠度增加及变异性缩小。
申请公布号 TW200702491 申请公布日期 2007.01.16
申请号 TW094122702 申请日期 2005.07.05
申请人 台湾上村股份有限公司 发明人 邱国宾
分类号 C23C22/78(2006.01) 主分类号 C23C22/78(2006.01)
代理机构 代理人 林火泉
主权项
地址 桃园县大园乡民族路7之1号1楼