发明名称 | 高抗蚀性化镍浸金处理流程 | ||
摘要 | 本发明提供一种高抗蚀性化镍浸金处理流程,首先将一待镀物的一表面区域进行一活化处理,使此表面区域转换成一活性区域,再将待镀物的活性区域进行双重镍镀。本发明藉由双重镍镀,以减少待镀物溶出干扰,提高镀浴使用寿命,进而降低成本,并且可使电镀产品可靠度增加及变异性缩小。 | ||
申请公布号 | TW200702491 | 申请公布日期 | 2007.01.16 |
申请号 | TW094122702 | 申请日期 | 2005.07.05 |
申请人 | 台湾上村股份有限公司 | 发明人 | 邱国宾 |
分类号 | C23C22/78(2006.01) | 主分类号 | C23C22/78(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林火泉 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县大园乡民族路7之1号1楼 |