发明名称 深紫外光发射装置及制造深紫外光发射装置之方法
摘要 本发明提供光发射装置及制造以一小于360 nm之波长发射且壁式插座效率至少为4%之光发射装置的方法。壁式插座效率可为至少5%或至少6%。亦提供光发射装置及制造以小于345 nm之波长发射且壁式插座效率至少为2%之光发射装置的方法。提供光发射装置及制造以小于330 nm之波长发射且壁式插座效率至少为0.4%之光发射装置的方法。亦提供光发射装置及制造在一小于大约0.35 μA/μm2之电流密度下,具有一不大于360 nm之峰值输出波长及一至少5 mW之输出功率、具有一345 nm或更少之峰值输出波长及一至少3 mW之输出功率及/或一330 nm或更少之峰值输出波长及一至少0.3 mW之输出功率的光发射装置的方法。该等半导体光发射装置可具有一至少100小时、至少500小时或至少1000小时之直流寿命。
申请公布号 TW200703722 申请公布日期 2007.01.16
申请号 TW095118852 申请日期 2006.05.26
申请人 克立公司 发明人 大卫 托德 艾默森;麦克 约翰 柏葛曼;艾伯 艾贝尔;凯文 贺伯那
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国