发明名称 正型光阻组成物,厚膜光阻叠层物,制造厚膜阻剂图案的方法,以及制造连接端子的方法
摘要 本发明的正型光阻组成物为一曝光于具有一或多种选自g–射线、h–射线及i–射线之波长的光线之正型光阻组成物,其包含:(A)化合物,其在以活性射线或辐射照射下产生酸,及(B)树脂,其在硷中的溶解度以酸的作用而增强,其中组份(A)包括在阳离子部分中具有环之盐(Al)。
申请公布号 TW200702909 申请公布日期 2007.01.16
申请号 TW095110765 申请日期 2006.03.28
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 三隅浩一;鹫尾泰史;先崎尊博;斋藤宏二
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本