发明名称 |
正型光阻组成物,厚膜光阻叠层物,制造厚膜阻剂图案的方法,以及制造连接端子的方法 |
摘要 |
本发明的正型光阻组成物为一曝光于具有一或多种选自g–射线、h–射线及i–射线之波长的光线之正型光阻组成物,其包含:(A)化合物,其在以活性射线或辐射照射下产生酸,及(B)树脂,其在硷中的溶解度以酸的作用而增强,其中组份(A)包括在阳离子部分中具有环之盐(Al)。 |
申请公布号 |
TW200702909 |
申请公布日期 |
2007.01.16 |
申请号 |
TW095110765 |
申请日期 |
2006.03.28 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
三隅浩一;鹫尾泰史;先崎尊博;斋藤宏二 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |