发明名称 | 非挥发性记忆体及其制造方法 | ||
摘要 | 一种非挥发性记忆体,其至少是由基底、第一掺杂区、第二掺杂区、第三掺杂区、第一闸极结构、第二闸极结构、第一浅掺杂区与第二浅掺杂区所构成。第一掺杂区、第二掺杂区以及第三掺杂区是设置于基底中,且第二掺杂区是位于第一掺杂区与该第三掺杂区之间。第一闸极结构设置于第一掺杂区与第二掺杂区间之基底上,第二闸极结构则设置于第二掺杂区与第三掺杂区间之基底上。第一浅掺杂区是位于第一闸极结构下方邻接第一掺杂区之基底中,第二浅掺杂区是位于第二闸极结构下方邻接第三掺杂区之基底中。 | ||
申请公布号 | TW200703627 | 申请公布日期 | 2007.01.16 |
申请号 | TW094122514 | 申请日期 | 2005.07.04 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 刘志拯 |
分类号 | H01L27/115(2006.01);H01L21/8247(2006.01) | 主分类号 | H01L27/115(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |