| 摘要 |
本发明系关于一种含有具有式(1)所示双酚基的化合物之形成光阻下层膜用材料。(R1、R2表示氢原子、烷基、芳基、或烯基；R3、R4表示氢原子、烷基、烯基、芳基、缩醛基、醯基、或环氧丙基，Z表示含有芳香族骨架的2价烃基，亦可为缩合多环式烃基，又该烃基中可含有杂原子)。本发明的形成光阻下层膜形成用材料为，若必要藉由组合具有反射防止效果的中间层，具有200nm以上膜厚下可尽可能充分发挥反射防止效果的吸光系数，使用于基板加工的CF4／CHF3系气体及Cl2／BCl3系气体蚀刻之速度亦比一般的间甲酚漆用酚醛树脂为强固，具有较高蚀刻耐性。又，形成图型后的光阻形状亦良好。 |
