发明名称 |
铜的表面处理方法及铜 |
摘要 |
本发明的课题系提供藉由铜的表面处理,不会形成超过1μm的凹凸,确保铜表面与绝缘层之黏着强度,可提高配线间的绝缘信赖性之铜的表面处理方法及铜;为了解决此课题,提供具有将比铜昂贵之金属离散形成于铜表面的步骤,其后将该铜表面以含有氧化剂之硷性溶液进行氧化处理的步骤之铜的表面处理方法,以及藉由该方法经表面处理之铜。 |
申请公布号 |
TW200702494 |
申请公布日期 |
2007.01.16 |
申请号 |
TW095108293 |
申请日期 |
2006.03.10 |
申请人 |
日立化成工业股份有限公司 |
发明人 |
山下智章;井上康雄;松浦雅晴;伊藤丰树;清水明;井上文男;中祖昭士 |
分类号 |
C25D11/34(2006.01);H01L23/29(2006.01);H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
C25D11/34(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |