| 摘要 |
本发明的目的系提供，可形成具有优秀光阻膜间密着性、能提升光阻图案的再现性，同时对使用于显像等之硷性液及去光阻时之氧气研磨加工具耐性之光阻下层膜，而且具有优秀保存安定性之光阻下层膜用组成物。有关本发明的光阻下层膜用组成物，其特征为，含有下述式(A)所示之矽烷化合物的水解物以及／或其缩合物者。 R1bR2cSi(OR3)4–a … (A)「式中，R1表示含有至少一个不饱和键结之1价的有机基，R2独立表示氢原子、卤素原子或1价的有机基，R3独立表示1价的有机基，R1表示OR3基以外的基，a表示1～3的整数，b表示1～3的整数，c表示0～2的整数，且a＝b＋c。」 |
