PHOTOMASKE UND VERFAHREN ZUR PHOTOLITHOGRAPHISCHEN MUSTERERZEUGUNG AUF EINEM SUBSTRAT UNTER BENÜTZUNG VON HILFSSTRUKTUREN MIT PHASENÄNDERUNG

摘要

A photomask and method of patterning a photosensitive layer using a photomask, the photomask including a substrate and a film coupled to substrate. The film is etched with a phase shifted assist feature, a low aspect ratio assist feature or phase shifted low aspect primary features.