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经营范围
发明名称
Method of manufacturing a thin film layer, and method of manufacturing a gate structure, capacitor and flash memory device using the same
摘要
申请公布号
KR100667633(B1)
申请公布日期
2007.01.12
申请号
KR20040108627
申请日期
2004.12.20
申请人
发明人
分类号
H01L21/8247
主分类号
H01L21/8247
代理机构
代理人
主权项
地址
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