| 主权项 |
1.一种光罩,其系于透光性基板表面形成有遮光性 膜图案,该光罩系于周边部之非转印区域中具有由 遮光性膜图案所构成的非装置图案,并至少在与形 成有该非装置图案的位置相对之透光性基板内面, 设置光穿透降低手段,用以降低由该透光性基板内 面之周边部射入的曝光之穿透。 2.如申请专利范围第1项之光罩,其中该光穿透降低 手段系由具有降低曝光之穿透的作用的薄膜或胶 膜(film)所构成。 3.如申请专利范围第1项之光罩,其中该光穿透降低 手段系经由基板面之粗面化处理所形成。 4.一种光罩,其系于透光性基板表面形成有遮光性 膜图案,该光罩系于周边部之非转印区域中具有由 遮光性膜图案所构成的非装置图案,该光罩被施以 能够降低该非装置图案之图案部和非图案部相对 于由该透光性基板内面射入之曝光的反射率差的 手段,使得该非装置图案不会于被转印面上发生解 像。 5.如申请专利范围第4项之光罩,其中具有调整该图 案部或非图案部相对于该曝光的反射率差的手段, 以降低该非装置图案之图案部和非图案部相对于 由该透光性基板内面射入之曝光的反射率差。 6.一种光罩,其系于透光性基板表面形成有遮光性 膜图案,该光罩系于周边部之非转印区域中具有由 遮光性膜图案所构成的非装置图案,该遮光性膜之 组合使得该非装置图案之图案部和非图案部相对 于由光罩表面射入之所曝之光的反射率并不相同 、亦使得图案部和非图案部相对于由光罩内面射 入之所曝之光不会产生实质的反射率差。 7.一种光罩,其系于透光性基板表面形成有遮光性 膜图案,该光罩系于周边部之非转印区域中具有由 遮光性膜图案所构成的非装置图案,该光罩被施以 能够降低该非装置图案之图案部和非图案部相对 于由该光罩表面射入之曝光的反射率差之手段,使 得该非装置图案不会于被转印面上发生解像。 8.如申请专利范围第7项之光罩,其中调整该图案部 或非图案部之遮光性膜相对于该曝光的反射率,以 降低该非装置图案之图案部和非图案部相对于由 该光罩表面射入之曝光的反射率差。 9.一种光罩,其系于透光性基板表面形成有遮光性 膜图案,该光罩系于周边部之非转印区域中具有由 遮光性膜图案所构成的非装置图案,且于该非装置 图案上或于形成有非装置图案之区域中形成有在 转印面上不会发生实质的解像之微细图案。 10.一种映像装置之制造方法,系使用申请专利范围 第1至第9项中任一项之光罩以进行图案转印之工 程。 图式简单说明: 第1图系为本案之实施例1中光罩的示意图,其中(a) 为平面图,(b)为内面图,(c)为剖面图; 第2图系为本案之实施例1中光罩的制造工程图; 第3图系为本案之实施例5中光罩的剖面图; 第4图系为本案之实施例5中光罩的制造工程图; 第5图系为本案之实施例6中光罩的剖面图; 第6图系为本案之实施例6中光罩的制造工程图; 第7图系为本案之实施例7中光罩的示意图,其中(a) 为平面图,(b)为部份放大图;以及 第8图系为曝光装置之模式结构图。 |
