| 主权项 |
1.一种具有光阻膜之基板之制造方法,包含; 光阻剂涂覆步骤: 藉涂覆喷嘴造成之毛细现象来升高存放于液槽之 液态光阻剂, 向下导引欲被涂覆之基板表面, 让该表面接近涂覆喷嘴顶部而其间有预定涂覆间 隙, 进行涂覆喷嘴与该表面间之相对扫描,同时使涂覆 喷嘴所产生之光阻剂接触该表面来形成涂覆膜,其 中, 该涂覆间隙系经由下列方式而调整于可调整范围 之高値:于可调整范围设定于液槽之光阻剂液面至 涂覆喷嘴顶端之高度缩小;及/或于可调整之范围 设定于涂覆喷嘴所造成之毛细现象之毛细间隙距 离增加,同时将涂覆膜厚度设定于预定値来达成。 2.如申请专利范围第1项之具有光阻膜之基板之制 造方法,其中, 由液槽之光阻剂液面至涂覆喷嘴顶端之高度系设 定为等于或大于毛细间隙距离,至小于该毛细间隙 距离之45倍。 3.一种具有光阻膜之基板之制造方法,包含: 光阻剂涂覆步骤: 藉涂覆喷嘴造成之毛细现象来升高存放于液槽之 液态光阻剂, 向下导引欲被涂覆之基板表面, 让该表面接近涂覆喷嘴顶部而其间有预定涂覆间 隙, 进行涂覆喷嘴与该表面间之相对扫描,同时使涂覆 喷嘴所产生之光阻剂接触该表面来形成涂覆膜,其 中, 该基板为矩形基板,其侧边之一具有等于或大于300 奈米之长度;以及 涂覆膜厚度系设定于选自200奈米至2000奈米范围之 数値,以及涂覆间隙系设定为等于或大于200微米, 让一区(该区面积至少占基板面积之70%)之涂覆膜 之膜厚度分布率系等于或小于1%。 4.一种具有光阻膜之基板之制造方法,包含: 光阻剂涂覆步骤: 藉涂覆喷嘴造成之毛细现象来升高存放于液槽之 液态光阻剂, 向下导引欲被涂覆之基板表面, 让该表面接近涂覆喷嘴顶部而其间有预定涂覆间 隙, 进行涂覆喷嘴与该表面间之相对扫描,同时使涂覆 喷嘴所产生之光阻剂接触该表面来形成涂覆膜,其 中, 该基板为矩形基板,其侧边之一具有等于或大于300 奈米之长度;以及 涂覆膜厚度系设定于选自200奈米至2000奈米范围之 数値,以及涂覆间隙系设定为等于或大于250微米, 让一区(该区面积至少占基板面积之70%)之涂覆膜 之膜厚度分布率系等于或小于0.75%。 5.一种具有光阻膜之基板之制造方法,包含: 光阻剂涂覆步骤: 藉涂覆喷嘴造成之毛细现象来升高存放于液槽之 液态光阻剂, 向下导引欲被涂覆之基板表面, 让该表面接近涂覆喷嘴顶部而其间有预定涂覆间 隙, 进行涂覆喷嘴与该表面间之相对扫描,同时使涂覆 喷嘴所产生之光阻剂接触该表面来形成涂覆膜,其 中, 该基板为矩形基板,其侧边之一具有等于或大于300 奈米之长度;以及 涂覆膜厚度系设定于选自200奈米至2000奈米范围之 数値,以及涂覆间隙系设定为等于或大于300微米, 让一区(该区面积至少占基板面积之70%)之涂覆膜 之膜厚度分布率系等于或小于0.5%。 6.如申请专利范围第1项之具有光阻膜之基板之制 造方法,其中, 该基板为光罩毛坯,其为经由形成一遮光图案于一 透明基板上所获得之光罩材料。 7.如申请专利范围第2项之具有光阻膜之基板之制 造方法,其中, 该基板为光罩毛坯,其为经由形成一遮光图案于一 透明基板上所获得之光罩材料。 8.如申请专利范围第3项之具有光阻膜之基板之制 造方法,其中, 该基板为光罩毛坯,其为经由形成一遮光图案于一 透明基板上所获得之光罩材料。 9.如申请专利范围第4项之具有光阻膜之基板之制 造方法,其中, 该基板为光罩毛坯,其为经由形成一遮光图案于一 透明基板上所获得之光罩材料。 10.如申请专利范围第5项之具有光阻膜之基板之制 造方法,其中 该基板为光罩毛坯,其为经由形成一遮光图案于一 透明基板上所获得之光罩材料。 图式简单说明: 图1A至1E为线图,各自显示用于根据本发明之具有 光阻膜之基板之制造方法,涂覆膜厚度与影响涂覆 膜厚度之参数之一相关参数间之关系。 图2为剖面图,显示经由涂覆装置之涂覆单元进行 根据本发明之具有光阻膜之基板之制造方法,于该 方法所进行之涂覆操作状态。 图3为线图,显示用于根据本发明之具有光阻膜之 基板之制造方法,涂覆间隙与涂覆膜厚度分布率间 之关系。 图4为线图,显示用于根据本发明之具有光阻膜之 基板之制造方法,液面高度对毛细间隙距离之比间 之关系,以及涂覆间隙与膜厚度分布率间之关系。 图5为侧视图,显示该涂覆装置之涂覆单元之组配 结构。 图6为剖面图,显示该涂覆装置之涂覆单元之组配 结构。 图7为剖面图,显示该涂覆装置之涂覆单元之主要 部分之组配结构。 图8为前视图,显示该涂覆装置之涂覆单元之组配 结构。 图9为流程图,显示根据本发明之制造方法之第一 程序。 图10为流程图,显示根据本发明之制造方法之第二 程序。 |
