发明名称 元件倾斜机构及镜面控制系统
摘要 一元件倾斜机构包含一具有一圆形凹部之后箱体、一具有一圆形凸部之支撑罩、一具有一枢轴部之枢轴面板,其系为具有弧状剖面之平板、一弹片,其系抵压支撑罩朝向后箱体而使枢轴面板于枢轴部为圆形凹部与圆形凸部支撑下得以倾斜、一用以固定弹片至后箱体之自攻螺丝、以及挡块,系固定于后箱体上以于非抵压方向上限制弹片之形变。依据本结构,挡块于非抵压方向上限制弹片之形变而避免枢轴面板之过度倾斜。
申请公布号 TWI270484 申请公布日期 2007.01.11
申请号 TW094122845 申请日期 2005.07.06
申请人 村上开明堂股份有限公司 发明人 深井晃
分类号 B60R1/072(2006.01);F16C11/08(2006.01) 主分类号 B60R1/072(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种元件倾斜机构,包含: 一第一元件,包含一圆形凹部; 一第二元件,包含一圆形凸部; 一第三元件,包含一枢轴部,其系为该圆形凹部及 该圆形凸部支撑, 一弹性元件,用以抵压该第一元件及该第二元件中 之一朝向另一元件,使该第三元件被支撑时可以相 对地倾斜;以及 一限制元件,用以限制该弹性元件于非受压方向之 变形。 2.如申请专利范围第1项所述之元件倾斜机构,其中 该弹性元件包含: 一非偏折部,固定于倾斜中心之附近;以及 至少一偏折部,延伸自该非偏折部分以压抵该第一 元件与该第二元件其中之一于该偏折部之一端部; 其中该限制元件系邻接该偏折部分之该端部,以限 制该端部于该非受压方向之一位移。 3.如申请专利范围第2项所述之元件倾斜机构,其中 该限制元件系为一环状,藉由一外部周缘部,以限 制该偏折部之该端部。 4.如申请专利范围第2项所述之元件倾斜机构,其中 该限制元件系为一圆盘状,藉由一外部周缘部,以 限制该偏折部之该端部。 5.如申请专利范围第2项所述之元件倾斜机构,其中 该限制元件之之中心部份系设置于该非偏折部。 6.如申请专利范围第2项所述之元件倾斜机构,其中 该限制元件之形状系对应该弹性元件。 7.如申请专利范围第2项所述之元件倾斜机构,其中 该限制元件包含至少一限制部,用以限制该偏折部 之该端部之位移;以及 其中该限制部之宽度系大于该偏折部之该端部之 宽度。 8.如申请专利范围第1项所述之元件倾斜机构,其中 该限制元件包含: 一限制部,系限制该弹性元件之变形;以及 一固定部,系将该弹性元件与该限制部固定于一预 定位置; 其中该限制部与该固定部系为一体成形。 9.一种镜面控制系统,包含: 一镜面元件; 一镜面支撑元件,用以支撑该镜面元件; 一元件倾斜机构,如申请专利范围第1项所述者,支 撑该镜面支撑元件呈倾斜状态;以及 一主体元件,用以支撑该元件倾斜机构,其中该镜 面元件系固定于该第一元件与该第三元件其中之 一,该主体元件则固定于其他第一和第三元件。 图式简单说明: 第1图系显示依据本发明第一实施例之镜面控制系 统之分解立体图; 第2图系显示第一实施例之镜面控制系统中之镜面 角度调整单元之分解立体图; 第3图系显示第一实施例之镜面控制系统中之镜面 角度调整单元之剖面图; 第4图系显示第一实施例之镜面控制系统中之挡块 立体图; 第5图系显示依据本发明中之第二实施例之镜面控 制系统之镜面角度调整单元之主要部分剖面图; 第6图系显示第二实施例之镜面控制系统之挡块立 体图; 第7图系显示第二实施例之镜面控制系统中档块之 另一实施例之立体图; 第8图系显示当固定挡块构件固接于本发明第三实 施例之镜面系统时镜面角度调整单元之主要部分 剖面图; 第9图系显示第三实施例之镜面控制系统中之固定 档块构件之立体图;及 第10图系显示说明书中一相关实施例之镜面控制 系统之镜面角度调整单元之剖面图。
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