发明名称 抗氧化方法及抗氧化机能水
摘要 透过使催化剂作用于氢溶存水中之过程,藉促进该氢溶存水中含有之分子状氢基质形成生成物活性氢之分解反应,将由于缺乏电子所造成之氧化状态或欲防止氧化之抗氧化对象能够改善及/或维持在电子充足的还原状态下。
申请公布号 TWI270532 申请公布日期 2007.01.11
申请号 TW091137152 申请日期 2002.12.24
申请人 汨智股份有限公司 发明人 柳原纪之;佐藤文平;首藤达哉
分类号 C02F1/70(2006.01);C02F1/30(2006.01);B08B3/08(2006.01);H01L21/304(2006.01);C12N9/08(2006.01) 主分类号 C02F1/70(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种抗氧化方法,其特征在于:透过使贵金属胶体 催化剂作用于氢溶存水中之过程,以促进以该氢溶 存水中含有之分子状氢作为基质形成生成物活性 氢之分解反应,将由于缺乏电子所造成之氧化状态 或欲防止氧化之抗氧化对象能够还原到电子充足 的状态下。 2.如申请专利范围第1项之抗氧化方法,其中,前述 贵金属胶体包括铂、钯、铑、铱、钌、金、银、 铼及该贵金属元素之盐、合金化合物、错化合物 之胶体粒子本身或其混合物。 3.如申请专利范围第1项之抗氧化方法,其中,前述 氢溶存水为所有含有氢之水,包含透过隔膜在阳极 与阴极间将原水进行电解处理时在阴极侧所生成 之硷性电解水,或将原水内将氢起泡(曝气)乃至进 行加压充填处理过之水。 4.如申请专利范围第1-3项任一项之抗氧化方法,其 中前述氢溶存水系表示带有为负値之ORP,且对应于 pH之ORP値较尼伦司特式;ORP=-59pH-80(mV)得出之値还低 之还原电位水。 5.如申请专利范围第4项之抗氧化方法,其中前述还 原电位水系使用一还原电位水生成装置生成电解 还原电位水,该还原电位水生成装置系包括: 一导入被电解原水之电解室, 一个以上之隔膜,分隔前述电解室内与前述电解室 外, 至少一个以上之电极板对,分别设置在前述电解室 内外介于前述隔膜间,以及 一电源回路,将前述电解室内所设置之电极板做为 阴极,前述电解室外所设置之电极板做为阳极,两 极间施加电压而形成电源回路, 其中前述电解室外之电极板与前述隔膜系设置为 互相接触或仅介入其间隙。 6.如申请专利范围第1-3项任一项之抗氧化方法,其 中前述氢容存水特征为,于常温与大气压下容存1.3 mg/L(使用氧化还原色素以容存氢浓度定量分析方 法换算容存氢浓度实际値)以上之氢的水。 7.如申请专利范围第1-3项任一项之抗氧化方法,其 中前述氢溶存水中以依需要添加有由含有亚硫酸 盐、硫代硫酸盐、抗坏血酸、抗坏血酸盐之群中 选出至少一种还原剂。 8.如申请专利范围第1-3项任一项之抗氧化方法,其 中前述抗氧化对象系因电子缺乏引起氧化状态或 欲防止氧化之对象物全体,包含生体细胞。 9.一种抗氧化机能水,其特征在于:氢溶存水中添加 有贵金属胶体催化剂,其催化该氢溶存水中所含分 子状氢基质分解为生成物活性氢之反应,因电子缺 乏引起氧化状态或欲防止氧化之抗氧化对象以前 述触媒促进前述反应而具有充足电子之还原状态 的抗氧化机能。 10.如申请专利范围第9项之抗氧化机能水,其中,前 述贵金属胶体包括铂、钯、铑、铱、钌、金、银 、铼及该贵金属元素之盐、合金化合物、错化合 物之胶体粒子本身或其混合物。 11.如申请专利范围第10项之抗氧化机能水,其中,前 述氢溶存水为所有含有氢之水,包含透过隔膜在阳 极与阴极间将原水进行电解处理时在阴极侧所生 成之硷性电解水,或将原水内将氢起泡(曝气)乃至 进行加压充填处理过之水。 12.如申请专利范围第9项-第11项任一项之抗氧化机 能水,其中前述氢溶存水系表示带有为负値之ORP, 且对应于pH之ORP値较尼伦司特式;ORP=-59pH-80(mV)得出 之値还低之还原电位水。 13.如申请专利范围第12项所述之抗氧化机能水,其 中前述还原电位水系使用一还原电位水生成装置 生成电解还原电位水,该还原电位水生成装置系包 括: 一导入被电解原水之电解室, 一个以上之隔膜,分隔前述电解室内与前述电解室 外, 至少一个以上之电极板对,分别设置在前述电解室 内外介于前述隔膜间,以及 一电源回路,将前述电解室内所设置之电极板做为 阴极,前述电解室外所设置之电极板做为阳极,两 极间施加电压而形成电源回路, 其中前述电解室外之电极板与前述隔膜系设置为 互相接触或仅介入其间隙。 14.如申请专利范围第9项-第11项任一项之抗氧化机 能水,其中前述氢容存水特征为,于常温与大气压 下容存1.3mg/L(使用氧化还原色素以容存氢浓度定 量分析方法换算容存氢浓度实际値)以上之氢的水 。 15.如申请专利范围第9项-第11项任一项之抗氧化机 能水,其中前述氢溶存水中以依需要添加有由含有 亚硫酸盐、硫代硫酸盐、抗坏血酸、抗坏血酸盐 之群中选出至少一种还原剂。 16.一种生体适用液,其特征在于:以申请专利范围 第9项-第11项任一项之抗氧化机能水作为主成分, 被调制成用在生体之包括饮用、注射用、点滴用 、透析用、化粧用的各用途。 图式简单说明: 第1图为表示尼伦司特式之图。 第2图为使用LED之亮灯试验样子的说明图。 第3图为本发明应用例之说明图。 第4图为显示使用本发明抗氧化方法之半导体基板 之洗净系统100之概略图。 第5图为显示本发明半导体基板洗净系统100中使用 之还原电位水生成装置11其基本构造之纵剖面图 。 第6-7图为显示以亚甲蓝之呈色变化进行添加Pt胶 体催化剂之电解处理水其还原活性评价试验结果 。 第8-9图为显示以亚甲蓝之呈色变化进行添加Pt胶 体催化剂之氢溶存水其还原活性评价试验结果。 第10-11图为显示以亚甲蓝之呈色变化进行添加Pdt 胶体催化剂之氢溶存水其还原活性评价试验结果 。 第12-13图为显示以亚甲蓝之呈色变化进行添加贵 金属(Pt+Pd)胶体催化剂之氢溶存水其还原活性评价 试验结果。 第14图为显示以亚甲蓝之呈色变化进行添加Pt胶体 催化剂之电解处理水(电解处理前添加/电解处理 后添加)其还原活性评价试验结果。 第15-16图为显示以DPPH游离基之呈色变化进行添加 Pt胶体催化剂之电解处理水其抗氧化活性评价试 验结果。 第17-18图为显示以DPPH游离基之呈色变化进行添加 催化剂之氢溶存水(脱气处理+氢气封入处理)其抗 氧化活性评价试验结果。 第19-20图为显示以亚甲蓝之呈色变化进行添加酵 素氢激催化剂之氢溶存水(脱气处理+氢气封入 处理)其还原活性评价试验结果。 第21-22图为说明以氧化还原色素之氧化还原滴定 进行溶存氢浓度定量分析之方法。 第23图为说明各种样本水之溶存氢浓度DH实测値与 实效値之对比。
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