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经营范围
发明名称
Water vapor supply system of etching chamber and the method of removing etching gas
摘要
申请公布号
KR100668182(B1)
申请公布日期
2007.01.11
申请号
KR20050033984
申请日期
2005.04.25
申请人
发明人
分类号
H01L21/3063
主分类号
H01L21/3063
代理机构
代理人
主权项
地址
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