首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Verfahren zur Freigabeverbesserung einer Halbleiterplatte
摘要
申请公布号
DE69932010(T2)
申请公布日期
2007.01.11
申请号
DE19996032010T
申请日期
1999.08.21
申请人
INFINEON TECHNOLOGIES AG
发明人
LIN, CHENTING
分类号
H01L21/306;B24B37/04;H01L21/304
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
TREATED COLLAGEN BASED SURGICAL THREADS
ELECTROSTATOGRAPHIC DEVELOPMENT APPARATUS
AZO COMPOUNDS
TIMEBASE CIRCUIT
BUILDING FASCIA MEMBERS
REPAIRING PIPE LEAKS
VEHICLE IMMOBILISATION DEVICE
POSITION COORDINATE INPUT DEVICE
TRANSDUCERS
TRAVELLING TRENCH SHORE
UNIT DOSAGE FORM
DATA DISPLAY SYSTEM
PATCH FOR PAINTWORK
PROPANOLS AND PREPARATION
TRIAZINE DERIVATIVES
ANORDNING FOER MAETNING AV URIN.
SPIRO-3-HETEROAZOLIDINDION-FORBINDELSER OG FARMACEUTISK ACCEPTABLE SALTE DERAF, FARMACEUTISK PRAEPARAT INDEHOLDENDE SAADANNE FORBINDELSER OG MELLEMPRODUKTER VED DERES FREMSTILLING
FREMGANGSMAADE TIL FREMSTILLING AF MAGNESIUMSALTE AF LACTAMER
BRAETSEJLER MED AFTAGELIGE STABILISATORVINGER
FREMGANGSMAADE TIL AFSVOVLING AF ROEGGASSER OG ANLAEG TIL BRUG VED FREMGANGSMAADEN
