发明名称 |
用于确定并显示辐射测量系统的最优化布置和安装的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于确定和显示在容器或管上的过程测量技术的测量系统,特别是辐射测量系统的最佳化布置和安装,其中测量系统测量该容器或管中的介质的至少一个特征参数。利用至少至少一个电子计算机(10)和一个与它连接的第二电子计算机(11)来执行本方法,该第二电子计算机包括一显示器(12)、一处理器控制的数据处理器(15)和一输入装置(13),其中考虑到容器或管的特征数据以及关于介质和关于希望的测量范围的信息。本方法得到在该容器或管上的测量系统的一个最佳布置,并将该布置以草图显示出来。本发明以尽可能快的速度生成测量系统的最优化设计,而且考虑到安全方面,它使客户和该测量系统的厂商或项目企划者之间直接接触。 |
申请公布号 |
CN1294467C |
申请公布日期 |
2007.01.10 |
申请号 |
CN02804272.7 |
申请日期 |
2002.01.29 |
申请人 |
恩德莱斯和豪瑟尔两合公司 |
发明人 |
约阿希姆·诺伊豪斯;沃尔夫冈·卡默瑞特 |
分类号 |
G05B23/02(2006.01);G05B15/02(2006.01) |
主分类号 |
G05B23/02(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
武玉琴;顾红霞 |
主权项 |
1.一种用于确定并显示一生产过程测量和/或过程控制设备的一辐射测量系统或一测量位置的最优化的布置和安装的方法,该测量系统用于测量至少一个过程变量或过程参数,该方法利用至少一个第一电子计算机和一与其连接的第二电子计算机来执行,该第二计算机包括一显示装置、一处理器控制的数据处理装置和一输入装置,该方法包括以下步骤:a)根据具体的过程数据,即由第二计算机发送到第一计算机的对测量系统测量的过程参数有影响的数据,计算测量系统的最佳布置;b)然后产生一示出最佳化测量系统布置的示意图,并将其显示在第二计算机的显示装置上。 |
地址 |
德国毛尔堡 |