| 发明名称 | 一种用于玻璃刻蚀制作的新型掩膜及其在玻璃刻蚀中的应用 | ||
| 摘要 | 本发明是一种用于玻璃刻蚀制作的新型掩膜及其在玻璃刻蚀中的应用，该新型掩膜，至少具有两层结构，一层是掩膜材料，一层是粘胶层，掩膜材料位于粘胶层的上方，通过粘胶层与所刻蚀的玻璃接触。该新型掩膜可稳定地结合于所刻蚀的玻璃上，同时不易被酸侵蚀，成本低廉，便于使用。该新型掩膜应用于玻璃的刻蚀中，不易脱落、有效防止酸液侧蚀、成本低效率高，可根据所侵蚀的图案形状随意刻化，且凹槽制作精度高。 | ||
| 申请公布号 | CN1891652A | 申请公布日期 | 2007.01.10 |
| 申请号 | CN200510035865.2 | 申请日期 | 2005.07.06 |
| 申请人 | 深圳TCL工业研究院有限公司 | 发明人 | 付东;谢相伟;孙贤文;曾乾;徐建坤;叶朝滢 |
| 分类号 | C03C15/00(2006.01) | 主分类号 | C03C15/00(2006.01) |
| 代理机构 | 深圳市永杰专利商标事务所 | 代理人 | 王志强 |
| 主权项 | 1、一种用于玻璃刻蚀制作的新型掩膜，其特征在于该掩膜至少具有两层结构，一层是掩膜材料，一层是粘胶层，掩膜材料位于粘胶层的上方，通过粘胶层与所刻蚀的玻璃接触。 | ||
| 地址 | 518067广东省深圳市蛇口工业大道中5号 | ||