发明名称 | 表征方法、表征处理操作的方法、以及装置制造方法 | ||
摘要 | 公开了一种系统,其中在晶片处理期间,衬底晶片的变形被监控。在一个实施例中,在每次曝光和处理操作之后,通过将多个参考标记的位置与数据库中的值相比较,测量衬底晶片中的失真。 | ||
申请公布号 | CN1892431A | 申请公布日期 | 2007.01.10 |
申请号 | CN200610091304.9 | 申请日期 | 2006.06.09 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | C·G·M·德莫尔 |
分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;张志醒 |
主权项 | 1.一种表征衬底的方法,所述方法包含:测量所述衬底上的位置,所述衬底上具有许多测量场并且每个场具有许多测量位置;至少基于测量场的数目、每个场的测量位置数目以及许多模型参数,计算估计方差;以及比较计算的估计方差和阈值量以此确定所述衬底的状态。 | ||
地址 | 荷兰费尔德霍芬 |