执行基于模型的光刻校正的方法

摘要

用于执行基于模型的光刻校正的方法和程序存储设备，所述方法将具有多个多边形的单元阵列布局分割为多个覆盖该布局的单元。该布局表示所需设计的数据结构。然后产生对应于多边形与多个单元之间的交互作用的密度图，随后各单元内的密度被卷积。利用该卷积密度形成交互作用图，然后截断该交互作用图以形成截断单元图。然后基本上相同分组的截断单元被分别隔离成多个桶中的不同桶，其中这些多个桶的各桶包含相同分组的截断单元的单个集合。利用这些桶产生结构排列，并利用该结构排列强化所需设计的数据结构以最终校正光刻。

主权项

1.一种执行基于模型的光刻校正的方法，该方法包括：提供具有多个有限几何形状的所需设计数据结构的单元阵列布局；将所述单元阵列布局分割为多个单元；基于对应于所述多个有限几何形状与所述多个单元之间的交互作用的密度图而产生交互作用图；截断所述交互作用图以产生截断单元图；将基本上相同出现的选择的一些所述截断单元分组为选自多个不同桶的单桶；以及利用所述多个不同桶强化所述所需设计数据结构以校正光刻。