发明名称 基板处理装置
摘要 本发明提供一种基板处理装置,可以容易应对基板的处理片数的增减、和品种的变更。基板处理装置具备:承载块(B1),包括在和承载体载置部(21)上的基板承载体(C)之间进行基板交接的第1运送机构(22);运送块(B2),邻接于该承载块(B1)设置,并具备第2运送机构(23);第1交接台(24),用于在第1运送机构(22)和第2运送机构(23)之间进行基板的交接;和多个处理块(B3、B4),装拆自如地设在运送块(B2)上。处理块(B3、B4)以各处理块为单位中对基板进行一连串的处理,所以通过装拆处理块可以应对基板大幅处理片数的增减,再者通过处理块的变更可以容易应对不同品种的变更。
申请公布号 CN1894789A 申请公布日期 2007.01.10
申请号 CN200480037053.5 申请日期 2004.11.11
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 松冈伸明;木村义雄
分类号 H01L21/68(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/68(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 温大鹏
主权项 1.一种基板处理装置,具备:承载块(B1),包括:承载体载置部(21),运入运出收纳有多片基板的基板承载体(C);和第1运送机构(22),相对于载置在该承载体载置部(21)上的基板承载体(C)进行基板的交接;第2运送机构(23),与该承载块(B1)邻接地设置,沿直线状的运送路运送基板;第1交接台(24),用于在上述第1运送机构(22)和第2运送机构(23)之间进行基板的交接;和多个处理块(B0、B3、B4),沿上述运送路排列,相对于装置主体装拆自如地设置;各处理块(B0、B3、B4)包含:涂敷单元(32),用于在基板上涂敷抗蚀剂液;显影单元(33),用于对曝光后的基板进行显影处理;加热单元(PEB、LHP、PAB),用于加热基板;第3运送机构(31),在这些单元之间运送基板;和第2交接台(TRS1、TRS2),用于在上述第2运送机构(23)和第3运送机构(31)之间进行基板的交接,以各处理块(B0、B3、B4)为单位对基板进行抗蚀剂液的涂敷及/或曝光后的显影处理。
地址 日本东京都