| 发明名称 | 用于制造磁记录介质的方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种用于制造磁记录介质的方法，该方法包括：在基底(15，35，51，61)上的记录磁道部分以及伺服部分上形成具有铁磁性材料(54，64)的凸起和凹陷的图形；在该铁磁性材料(54，64)上形成平化膜(56，66)，该平化膜的顶表面高于铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面；以及在该平化膜(56，66)上进行离子束蚀刻直到铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面，并且通过离子计数器(13，33)基于入射颗粒的总数的变化来确定平化蚀刻的终点，该离子计数器被安装成根据平化膜(56，66)的材料相对于基底(15，35，51，61)的垂直方向成角度θ。 | ||
| 申请公布号 | CN1892833A | 申请公布日期 | 2007.01.10 |
| 申请号 | CN200610094230.4 | 申请日期 | 2006.06.27 |
| 申请人 | 株式会社东芝;昭和电工株式会社 | 发明人 | 镰田芳幸;内藤胜之;喜喜津哲;樱井正敏;冈正裕 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | G11B5/84(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1.一种用于制造磁记录介质的方法，其特征在于包括：在基底(15，35，51，61)上的记录磁道部分和伺服部分上形成具有铁磁性材料(54，64)的凸起和凹陷的图形；在所述铁磁性材料(54，64)上形成平化膜(56，66)，所述平化膜的顶表面高于所述铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面；以及在所述平化膜(56，66)上进行离子束蚀刻直到所述铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面，并且借助于离子计数器(13，33)基于入射颗粒的总数的变化来确定平化蚀刻的终点，所述离子计数器被安装成，根据所述平化膜(56，66)的材料，相对于所述基底(15，35，51，61)的垂直方向成角度θ。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||