发明名称 光刻装置、器件制造方法、由此制造的器件及可控构图部件
摘要 本发明包括光刻装置和使用构图部件的器件制造方法,该光刻装置和器件制造方法增加了被同时编程的单独可控元件的数量,以便增大单独可控元件阵列的更新速度。减小了阵列所需的高速模拟输入的数量。减小了阵列的复杂程度,并增大了阵列的最大更新速度。此外,阵列中元件的数量可以容易地进行扩充。构图部件可以分成多组单元,光刻装置包括多个供给通道。每个供给通道可以布置成向相应单元组中的每个单元提供电压信号。这样可以减小为了单独对每个单元寻址而需要的构图部件的输入的数量。
申请公布号 CN1892432A 申请公布日期 2007.01.10
申请号 CN200610093679.9 申请日期 2006.06.14
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 M·C·雷杰能;A·马卡罗威;L·G·M·克塞尔斯;S·尼天诺夫;P·W·J·M·坎帕;K·H·智洛夫
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 肖春京
主权项 1.一种光刻装置,包括:提供辐射光束的照射系统;包括对光束构图的单独可控元件阵列的可控构图部件;输出电压信号和控制构图部件的控制系统;将带图案的光束投影到基底靶部的投影系统;以及连接控制系统和构图部件的供给通道,其中构图部件包括多个单元,每个单元包括单独可控元件中相应的一个和相应的局部控制电路,该控制电路控制成产生相应的控制电压,控制电压确定相应可控元件的配置,供给通道向每个单元提供电压信号,控制系统向多个局部控制电路提供控制信号,每个局部控制电路包括将电路与供给通道连接的第一相应的可控开关装置和多个相应的其他电子元件,和每个局部控制电路响应于控制信号从电压信号产生相应的控制电压。
地址 荷兰费尔德霍芬