发明名称 |
三维集成电路装置以及集成电路基板的对准方法 |
摘要 |
一种三维集成电路装置以及集成电路基板的对准方法,该集成电路基板的对准方法,包括:提供一第一基板,上述第一基板具有一第一正面、一第一背面以及一第一对准标记,第一正面具有多个第一集成电路结构,第一对准标记形成于第一正面或第一背面。提供一第二基板,上述第二基板具有一第二正面、一第二背面以及一第二对准标记,第二正面具有多个第二集成电路结构,第二对准标记形成于第二正面或者第二背面。提供一第一光学感测器以及一第二光学感测器,分别感测第一、第二对准标记进而对准第一、第二基板,其中第一、第二对准标记是面朝相反方向,并分别正对于第一、第二光学感测器。本发明具有较佳的准确度,且可减少不必要的制程步骤。 |
申请公布号 |
CN1893012A |
申请公布日期 |
2007.01.10 |
申请号 |
CN200610001613.2 |
申请日期 |
2006.01.13 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
陈学忠;罗吉进;范淑贞 |
分类号 |
H01L21/68(2006.01);H01L25/065(2006.01);H01L25/18(2006.01);H01L25/00(2006.01);H01L23/544(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/68(2006.01) |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
1.一种集成电路基板的对准方法,其特征在于,所述集成电路基板的对准方法包括:提供一第一基板,该第一基板具有一第一正面、一第一背面以及一第一对准标记,其中该第一正面具有多个第一集成电路结构,且该第一对准标记是形成于该第一正面或者该第一背面;提供一第二基板,该第二基板具有一第二正面、一第二背面以及一第二对准标记,其中该第二正面具有多个第二集成电路结构,且该第二对准标记是形成于该第二正面或者该第二背面;以及提供一第一光学感测器以及一第二光学感测器,用以分别感测该第一、第二对准标记进而对准该第一、第二基板,其中该第一、第二对准标记是面朝相反方向,并分别正对于该第一、第二光学感测器。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号 |