发明名称 |
光刻装置和器件制造方法 |
摘要 |
具有数据通路的光刻装置,该数据通路将所要求剂量的图案表示转换成控制数据序列,该控制数据序列适合于控制单独可控元件阵列,其中数据通路包括多个数据操作设备和计算负荷控制器,该计算负荷控制器用于平衡数据操作设备之间的计算负荷。一种使用光刻装置的元件的器件制造方法和使用该方法制造的平板显示器和集成电路器件。 |
申请公布号 |
CN1892437A |
申请公布日期 |
2007.01.10 |
申请号 |
CN200610100045.1 |
申请日期 |
2006.06.27 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
M·H·H·霍克斯;P·A·J·廷纳曼斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
肖春京 |
主权项 |
1.一种光刻装置,包括:调制辐射光束的单独可控元件阵列;数据处理线,用于将所要求剂量图案的第一数据表示转换成控制数据序列,所述控制数据序列用于控制所述单独可控元件阵列,以便大体上在基底上形成所述所要求的剂量图案;所述数据处理线包括:多个数据操作设备;和计算负荷控制器,其配置成将所述第一数据表示划分成多个数据包,每个数据包相应于所述所要求剂量图案的一组子区域之一,并将每个所述数据包发送给所述数据操作设备中的一个,其中所述计算负荷控制器布置成选择数据包以发送到每个数据操作设备,从而平衡数据操作设备之间的总计算负荷。 |
地址 |
荷兰费尔德霍芬 |