发明名称 |
连续浇注金属的方法和设备 |
摘要 |
本发明涉及连续浇注金属的方法和设备。在本发明的连续浇注金属的方法中,液态金属作为一股射流被供给到一个已经装有液态金属的结晶器中,其中,利用磁体元件将随时间变化并且被固定在空间中的磁场施加到结晶器中的液态金属上以防止液态金属产生自然振荡,在浇注过程中以不规则的时间间隔施加所述变化磁场。本发明的连续浇注金属的设备包括结晶器和元件,在浇注过程中液态金属通过结晶器,液态金属通过所述元件作为一股射流被供给已装有液态金属的结晶器,该设备包括用于将能随时间变化且被固定在空间中的磁场施加到结晶器中的液态金属上的磁体元件,如此设置磁体元件,即磁体元件能够以不规则的时间间隔产生变化磁场。 |
申请公布号 |
CN1293964C |
申请公布日期 |
2007.01.10 |
申请号 |
CN99813974.2 |
申请日期 |
1999.11.02 |
申请人 |
ABB股份有限公司 |
发明人 |
C·斯万;T·克龙;J·-E·埃里克松;G·塔尔贝克 |
分类号 |
B22D11/115(2006.01) |
主分类号 |
B22D11/115(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
郑建晖 |
主权项 |
1.连续浇注金属的方法,液态金属作为一股射流被供给已装有液态金属的结晶器(1),利用磁体元件(6,7)将一个随时间变化并且被固定在空间中的磁场施加到该结晶器中的液态金属上以防止所述液态金属产生自然振荡,其特征在于,在浇注过程中以不规则的时间间隔施加所述变化磁场。 |
地址 |
瑞典韦斯特罗斯 |