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经营范围
发明名称
Plasma Etching Equipment
摘要
申请公布号
KR100665991(B1)
申请公布日期
2007.01.10
申请号
KR20040093188
申请日期
2004.11.15
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
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